positive-working photoresist
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正性感光胶
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1、
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2、
本文综述了酚醛重氮萘醌正性抗蚀剂的溶解抑制机理，主要包括（1）分子间氢键作用机理；
来源：互联网摘选 -
3、
In the paper diazonaphthoquinone positive photoresist composition for LCD was studied.
文章是有关用于LCD的重氮萘醌系正性抗蚀剂的研究.
来源：互联网摘选 -
4、
Dissolution inhibition mechanisms of positive photoresist based on novolak-dnq
酚醛-重氮萘醌正性抗蚀剂溶解抑制机理
来源：互联网摘选
- 相关词组
- removing of photoresist by plasma 等离子[体]去胶
- negative photoresist 负性光致抗蚀剂;负性光刻胶
- photoresist flaw 光蚀刻的伤痕
- removing of photoresist by oxidation 氧化去胶
- stripping of photoresist 去胶
- photoresist coating 光致抗腐蚀涂覆
- photoresist process 光致抗蚀工艺
- negative type photoresist 负性光致抗蚀剂
- negative-working photoresist 负性感光胶
- positive photoresist 正性胶,正性光致抗蚀剂
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